رسوب فیزیکی بخار (PVD) فرآیندی است که برای تولید بخار فلزی استفاده می شود که می تواند بر روی مواد رسانای الکتریکیبه عنوان یک پوشش فلز خالص یا آلیاژ نازک و بسیار چسبنده رسوب شود. این فرآیند در یک محفظه خلاء در خلاء بالا (10-6 torr) با استفاده از یک منبع قوس کاتدی انجام می‌شود.
سه مرحله در فرآیند PVD چیست؟
فرایندهای اساسی PVD عبارتند از تبخیر، کندوپاش و آبکاری یونی.
تفاوت بین PVD و CVD چیست؟
PVD یا رسوب فیزیکی بخار، یک فرآیند پوشش دهی خطی است که امکان پوشش های نازک و لبه های تیز را فراهم می کند. از طرف دیگر، CVD مخفف رسوب بخار شیمیایی است و برای محافظت در برابر گرما ضخیم تر است. PVD معمولاً برای ابزارهای تکمیلی اعمال می‌شود، در حالی که CVD برای خشن کردن بهترین است
کاربردهای رایج برای پوشش رسوب بخار فیزیکی چیست؟
PVD در ساخت طیف گسترده ای از کالاها، از جمله دستگاه های نیمه هادی، فیلم PET آلومینیومی برای بادکنک ها و کیسه های خوراکی، پوشش های نوری و فیلترها، ابزارهای برش پوشش داده شده برای فلزکاری و مقاومت در برابر سایش، و فیلم های بسیار بازتابنده برای نمایشگرهای تزئینی.
مفهوم اصلی رسوب فیزیکی و شیمیایی بخار چیست؟
تفاوت بین رسوب فیزیکی بخار (PVD) و رسوب بخار شیمیایی (CVD) رسوب بخار فیزیکی (PVD) و رسوب بخار شیمیایی (CVD) دو فرآیند هستند که برای تولید یک لایه بسیار نازک از ماده که به عنوان یک لایه نازک شناخته می شود، روی یک بستر.
